ニューガラスフォーラム・ロゴマーク
japanese.gif
english.gif
INTERGLAD
|HOME |NGF概要 |研究開発 |機関誌 |研究会等 |ニューガラス |用語集 |掲示板 |カレンダー |リンク |アクセス |サイト検索|
Asahi Glass Co., Ltd Nippon Sheet Glass HOYA Glass Nippon Electric Glass

若手懇談会若手懇談会 第51回例会始末記


第51回若手懇談会は以下の内容で行われました。

日時:1999年3月12日(金)

場所:(社)ニューガラスフォーラム 9階会議室


講演:
  1.「フェムト秒レーザーによるガラス内部改質」 科学技術振興事業団 平尾誘起構造プロジェクト 近藤 裕己 先生
  2. 「ArFエキシマレーザー照射による合成石英ガラスの透過率特性」 東芝セラミックス株式会社 中島 稔夫先生

 近藤先生の講演  中島先生の講演  懇親会風景


内容:
 平成11年2回目の若手懇談会で、上記2件の講演を行いました。
 まず、近藤先生はフェムト秒レーザーを照射するとき、ガラス中の屈折率変化及び光化学反応について解説して頂きました。これらの現象を用いて、ガラス内部に光導波路を書き込み、ガラス内部の結晶化の制御、及び希土類イオンの価数制御に基づく光機能性の発現等の応用について説明されました。通常吸収が少ない波長で、レーザを照射しても反応しませんが、ガラス内部に高エネルギーに集光させると、ガラスを改質することができるという点が画期的で、これからの展開が期待されます。
 引き続き、中島先生にはArFエキシマレーザー照射によるシリカガラス中の欠陥形成について解説して頂きました。欠陥の形成過程を解明するため、レーザーの照射量及びガラス中のOH基、水素分子の濃度との関連性から詳しく検討されました。エキシマレーザーに耐えられるシリカガラスの構造が明らかになってきたと思います。
 2件の講演の後の懇談会で、活発な情報交換があり、有意義な講演会になったと思います。前回に続き、大勢の方々に参加して頂き、大盛況の若手懇談会になりました。


次回講演会のお知らせ 過去の講演会

若手懇談会のトップページへ戻る