若手懇談会＞若手懇談会 第５５回例会始末記

第５５回若手懇談会は以下の内容で行われました。

日時：１９９９年１１月１２日(金)

場所：(社)ニューガラスフォーラム５F会議室

講演
　　(1)「ゾルゲル法によるメチルシルセスキオキサンの理論検討」
　　　　日本山村硝子株式会社 ニューガラス研究所　張 祖依 先生
　　(2)「光触媒中間膜としての成分傾斜膜」
　　　　宇部日東化成株式会社 研究開発部　足立 龍彦 先生

張先生	足立先生	懇親会風景

参加者：２８名

内容：
　総会に引き続き、２件の講演が行われました。今回はゾルゲル法を中心とした基礎的な検討及び応用について話題提供して頂きました。

　張先生からは、アルコキシドからのﾒﾁﾙｼﾙｾｽｷｵｷｻﾝの形成において、触媒の選択によって線状のオリゴマーが得られるという研究結果を紹介して頂きました。得られたシロキサン中の配向および結合の歪を解析し、安定なシロキサンを形成する無機コーティング剤の研究開発について紹介して頂きました。

　足立先生からは、光触媒を有機基材へ応用する際の、バリアー層の役割を解説して頂きました。成膜の際、有機高分子の吸着現象を利用して有機基材側に有機成分、反対側の表面に無機(シリカ)成分を集めて成分傾斜膜を形成する新しい有機−無機コーティング技術について紹介して頂きました。これによって、光触媒膜の耐候性が画期的に向上し、様々な有機基材への応用が期待されます。

　最後に恒例の懇親会が行われ、両講演者への質問、参加者間の情報交換が活発に行われました。

今回の総会で若手懇談会の役員が５名入れ替わりました。林新会長以下、新体制で本懇談会が皆様にとって益々有意義なものとなるよう運営していきますので、今後ともふるってご参加下さい。