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New Glass 35 Vol.9 No.4 (1994)


巻頭言 ------- p.2

日本板硝子(株)社長 松村 實


(社)ニューガラスフォーラムの委員会組織の改正について ------- p.3

(社)ニューガラスフォーラム事務局


特集半導体用多層平坦化ガラス

超LSI多層配線用平坦化絶縁膜 ------ p.4

日本大学工学部 菅原 活郎

TEOS系CVDによる層間絶縁膜形成技術 ------ p.14

三菱電機(株) 小谷 英夫

LSIにおけるスピンオングラス層間膜の現状 ------ p.21

(株)日立製作所 大和田 伸郎

(株)日立製作所 大橋 直史

ECRプラズマCVD法によるSiO2膜 ------ p.28

NTTLSI研究所 町田 克之


NEW GLASS研究最先端

超急冷法によるメゾスコピック超イオン伝導体の作製 ------ p.34

大阪府立大学工学部 辰巳砂 昌弘

大阪府立大学工学部 南 努

軽量リターナブル壜の開発 ------ p.40

キリンビール(株) 横倉 修一


開発秘話

ダイヤモンド高速気相合成法「ダイヤモンドジェット」法 ------ p.45

(株)富士通研究所 栗原 和明


ニューガラス関連学会から

第9回非酸化物ガラス国際会議参加報告 ------ p.47

神戸大学理学部 河本 洋二

第3回ゾル−ゲルオプティックスに参加して ------ p.48

近畿大学理工学部 峠 登

非線形光電子材料国際シンポジウム参加報告 ------ p.50

旭硝子(株) 杉本 直樹

第6回Joint MMM Intermag Conference ------ p.52

日本板硝子(株) 小暮 敏博

第7回Eurodim’94 ------ p.53

大阪工業技術研究所 西井 準治

第5回国際オットショット会議 ------ p.55

大阪工業技術研究所 西井 準治

第55回応用物理学会学術講演会参加報告 ------ p.56

NTT光エレクトロニクス研究所 轟 眞市

第4回ホールバーニング国際会議報告 ------ p.57

東京大学工学郎 牧島 亮男


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