2022.1.28更新

ガラス科学技術研究会


    
 ニューガラス産業の基盤となる「ガラス基礎技術の発展と普及」を目指し、大学・公的研究機関・企業における「ガラス技術の新たな展開や、顕著な進展に関する話題」を取り上げるとともに、企業における「最近の製品化事例」などを交えながら、企業(メーカーとユーザー)の発展に不可欠な「科学的理解と基礎技術の深化」について産学官が考え議論する場、あるいはニーズとシーズの出会いの場とします。対象とする基礎技術の範囲は、ガラス素材創製、ガラス構造、ガラス表面、溶融・成形・加工技術、計算機科学などが含まれますが、評価技術については除外します。年間4回開催予定で、第2回および第4回は評価技術研究会と合同で開催します。       

主査東京都立大学大学院都市環境科学研究科 教授梶原 浩一
幹事産業技術総合研究所無機機能材料研究部門 高機能ガラスG北村 直之
日本電気硝子株式会社基盤技術部加藤 嘉成
HOYA株式会社MD部門 HOML マテリアルG徳光 秀造

2021年度第2回 ガラス科学技術研究会のお知らせ

< 参加者募集中 >


 「溶液法による薄膜電子材料の創成」

 
1. 日時:2022年3月8日(火)13:00~17:05

2. 場所:オンライン開催(ZOOM利用)

3. プログラム
 (1) 事務連絡 13:00~13:05
 (2) 開会挨拶 13:05~13:10
     梶原 浩一 ガラス科学技術研究会主査(東京都立大学 教授)
   
 (3) 講演
   講演① 13:10~14:05(講演45分、質疑応答10分)
   「金属酸化物薄膜トランジスタの高性能化と高信頼性化」
     浦岡 行治 先生(奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学領域 教授)

   【要旨】
      InGaZnOをはじめとする金属酸化物薄膜は、次世代のディスプレイの薄膜トランジスタのチャネル
     膜やセンサー素子として幅広く研究されている。特に近年はフレキシブルデバイスデバイスへの応用に
     向けて、真空形成方法のみならず液体プロセスも研究されている。本講演では、様々なプロセスに
     よって形成された金属酸化物薄膜トランジスタの性能や信頼性について紹介することで、将来性や
     課題について議論する。

   講演② 14:05~15:00(講演45分、質疑応答10分)
   「ミスト流を利用した機能膜形成手法「ミストCVD」の現況」
     川原村 敏幸 先生(高知工科大学 システム工学群 教授)

   【要旨】
      大気圧下で大面積に亘り高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに
     関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の
     方向性等、簡潔に説明します。

      ---------   休   憩 ( 10分 )  ----------

   講演③ 15:10~16:05(講演45分、質疑応答10分)
   「プリンテッドエレクトロニクス向け低温焼結塗布型シリカ」
     三成 剛生 先生(物質・材料研究機構 機能性材料研究拠点 プリンテッドエレクトロニクス
     グループ グループリーダー)

   【要旨】
      我々は、金属ナノ粒子インクを導電材料とした微細な印刷と、印刷による薄膜素子の研究開発を
     行っている。印刷エレクトロニクス向けの絶縁材料である低温焼結塗布型シリカ(LCSS)を開発した。
     LCSSは90℃で成膜可能であり、高い絶縁特性と透明性を有し、印刷薄膜トランジスタ(TFT)の
     ゲート絶縁材料としても最適である。本講演では、LCSSを用いた印刷による微細三次元配線と、
     TFTに関して報告する。
 
   講演④ 16:05~17:00(講演45分、質疑応答10分)
   「ゾルゲル法を用いた強誘電体薄膜形成技術とその応用」
     土井 利浩 先生(三菱マテリアル株式会社 中央研究所 機能化学領域 副主任研究員)

   【要旨】
      モバイル機器の普及に伴い、MEMSセンサ、アクチュエータの需要が拡大している。従来のSi-MEMS
     を凌駕するデバイス特性を目指し、圧電体薄膜技術とSi加工技術を組み合わせたPiezoMEMS開発
     が盛んに行われている。圧電体材料としてはチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)や窒化アルミニウムなどが
     用いられてきた。本講演では、代表的な圧電体薄膜であるPZTの成膜技術、評価技術を中心に
     MEMS向け圧電体薄膜技術について紹介する。
   
 (4) 事務連絡 17:00~17:05

4. 参加費について
    会員企業の方   : 10,000円
    会員外企業の方  : 20,000円
    官学の研究者   :  1,000円 <年間登録者無料>

5. 参加申込み
     次の①~⑥の事項を記入の上、2022年2月28日(月)までに 下記宛 e-mailにて
    お申込み下さい。なお、お申込み多数の場合には、調整させていただく場合がございます。
     ①氏名(フリガナ)
     ②所属(会社名・部署)
     ③E-mailアドレス
     ④住所
     ⑤TEL番号
     ⑥参加を希望するセミナー・研究会名
  
  【申込み先】 
   一般社団法人ニューガラスフォーラム
   セミナー研究会窓口(yamamoto@ngf.or.jp) 担当:小路谷
   〒169-0073東京都新宿区百人町3-21-16日本ガラス工業センター2F
   TEL:03-6279-2605 FAX:03-5389-5003