若手懇談会＞若手懇談会 第５７回例会始末記

第５７回若手懇談会は以下の内容で行われました。

日時：２０００年３月１７日(金)　16:00〜

場所：(社)ニューガラスフォーラム５F会議室

講演
　　(1)「フッ素ドープシリカのF2レーザー耐性」
　　　　東京工業大学　応用セラミックス研究所　水口雅史 先生
　　(2)「WDM通信用光ファイバ」
　　　　住友電気工業（株）　横浜研究所　平野正晃 先生
　　(3)「高出力・広帯域光アンプ用光部品」
　　　　古河電気工業（株）　光技術研究所　田中完二 先生

水口先生	平野先生	田中先生	懇親会風景

内容：
　２０００年２回目の懇談会として２１世紀に欠かせない技術をテーマに３件、１時間３０分の講演が行われました。

　水口先生からは次世代リソグラフィー用光源として注目されてきたＦ２レーザー用の材料としてＦドープ合成石英のＦ２レーザー耐性について、ご講演戴きました。これによってさらに微細なパターン加工への可能性が出てきた事だけでなく、Ｆ２レーザーを照射する事によって石英の内部構造に変化が起こり、ＶＵＶの透過率が上昇する事など、サイエンスとしても興味深いお話でした。

　平野先生からは２１世紀へ向けての通信技術であるWDM通信用の光ファイバについてその非線形性に注目し、この光ファイバ中で発現する非線形光学効果にはどのようなものがありどのような障害をもたらすのか、またその効果を利用した最新の光機能性ファイバについて、御講演いただきました。

　田中先生からは、ＤＷＤＭで用いられる高出力・広帯域光アンプ用光部品のアサーマル化について、元ガラス研究者と言う視点からご講演をいただきました。アンプ用光部品のアサーマル化の必要性、アサーマル特性の検討・ガラスの選択等について詳しいお話があり、条件に合うガラスの研究がなされていない事などへの議論の要請などがありました。

　３件とも質疑が非常に活発に行われ、参加者の今回のテーマへの関心の高さを感じました。講演会の後に恒例の懇親会が行われ、活発な交流が行われました。今回はご講演をいただいた先生が３人いらっしゃった事と、会員以外の方の出席が多かった事もあって、名刺交換などが多くなされていたようです。次回もこの調子でたくさんの参加をお待ちしております。