巻頭言
------- p.2
日本板硝子（株）社長
松村 實
（社）ニューガラスフォーラムの委員会組織の改正について
------- p.3
（社）ニューガラスフォーラム事務局
特集半導体用多層平坦化ガラス
超ＬＳＩ多層配線用平坦化絶縁膜 ------ p.4
日本大学工学部
菅原 活郎
ＴＥＯＳ系ＣＶＤによる層間絶縁膜形成技術 ------ p.14
三菱電機（株）
小谷 英夫
ＬＳＩにおけるスピンオングラス層間膜の現状 ------ p.21
（株）日立製作所
大和田 伸郎
（株）日立製作所
大橋 直史
ＥＣＲプラズマＣＶＤ法によるSiO2膜 ------ p.28
ＮＴＴＬＳＩ研究所
町田 克之
NEW GLASS研究最先端
超急冷法によるメゾスコピック超イオン伝導体の作製 ------ p.34
大阪府立大学工学部
辰巳砂 昌弘
大阪府立大学工学部
南 努
軽量リターナブル壜の開発 ------ p.40
キリンビール（株）
横倉 修一
開発秘話
ダイヤモンド高速気相合成法「ダイヤモンドジェット」法 ------ p.45
（株）富士通研究所
栗原 和明
ニューガラス関連学会から
第９回非酸化物ガラス国際会議参加報告 ------ p.47
神戸大学理学部
河本 洋二
第３回ゾル−ゲルオプティックスに参加して ------ p.48
近畿大学理工学部
峠 登
非線形光電子材料国際シンポジウム参加報告 ------ p.50
旭硝子（株）
杉本 直樹
第６回Joint MMM Intermag Conference ------ p.52
日本板硝子（株）
小暮 敏博
第７回Eurodim’９４ ------ p.53
大阪工業技術研究所
西井 準治
第５回国際オットショット会議 ------ p.55
大阪工業技術研究所
西井 準治
第５５回応用物理学会学術講演会参加報告 ------ p.56
ＮＴＴ光エレクトロニクス研究所
轟 眞市
第４回ホールバーニング国際会議報告 ------ p.57
東京大学工学郎
牧島 亮男
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